近年来，芯片制造的技术发展一直是兆声波清洗机发展的驱动力。随着芯片工艺的慢慢的提升，清洗工序的数量大幅度提高，所需的清理洗涤设施数量也将持续增长，给兆声波清洗机带来了巨大的新增市场需求；此外，芯片工艺的进步及芯片结构的复杂化导致兆声波清洗机的价值持续提升，在此背景下，我国兆声波清洗机规模快速扩张。据资料显示，2022年我国兆声波清洗机产能为3300台，同比增长17.9%；产量为2879台，同比增长15.1%；需求量为4534台，同比增长14.9%。
关键词：兆声波清洗机行业发展的新趋势 兆声波清洗机行业竞争格局 兆声波清洗机行业市场规模 兆声波清洗机产量
兆声波清洗机是以高频振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清理洗涤为原理的清理洗涤设施。兆声波清洗工艺是一种以超声波清洗为基础而研发的新兴半导体清洗技术，和传统的超声波清洗原理类似，不过其使用的声波频率高达500kHz-499GHz，这样既保存了原有超声波清洗的技术优势，又对超声波清洗的技术劣势加以改善。其原理是利用声压梯度、粒子速度及声流的作用，由高能频振效应结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗。
半导体专用设备行业是中国重点鼓励发展的产业。为推动半导体产业高质量发展，增强产业创造新兴事物的能力和国际竞争力，带动传统产业改造和产品升级换代，进一步促进国民经济持续、快速、健康发展，中国中央及地方政府近年来推出了《信息产业高质量发展指南》《中国（上海）自由贸易试验区临港新片区集聚发展集成电路产业若干措施》等一系列鼓励和支持半导体产业高质量发展的政策，为半导体产业的发展营造了良好的政策环境，促进了中国大陆半导体专用设备行业的发展。
兆声波清洗机行业的上游为电子元器件和机械加工行业，采购的原材料主要为机器人手臂、兆声波发生器、过滤器、阀门、传感器等，由于兆声波清洗机具有高精度、高可靠性等特点，对原材料和零部件的要求也相应较高；下游为兆声波清洗机应用环节，其最大的应用领域是半导体晶圆制造和封装测试等领域，此外，随着研究推进，兆声波清洗技术除了在半导体和电子器件的生产应用外，在光学器件和医疗仪器等其他领域也逐渐得到重视。
兆声波清洗机最大的应用领域是半导体晶圆制造和封装测试等领域，随着我们国家经济实力的稳步增长，半导体产业投资力度和产出规模得到了充足的发展驱动力，有效提升了下游产业对半导体晶圆清理洗涤设施行业的需求程度。中国大陆晶圆制造业起步较晚，但在国家政策的支持下，随着国内经济的发展和科学技术水平的提高，国内芯片设计公司对晶圆制造服务的需求日益提升，中国大陆晶圆制造业实现了快速的发展。据资料显示，2022年我国集成电路制造市场规模增长为3854.8亿元，同比增长21.4%。
兆声波清洗机大范围的应用于半导体清洗、半导体科研及实验室领域。此外，还可用于液晶、镜片、光学器件照相机镜头制造业以及钟表、眼境、珠宝制造业等。随着近年来半导体行业的迅速发展，全球兆声波清洗机行业规模持续扩张，其中亚太地区是全球最大的半导体市场，也是兆声波清洗机的主要消费市场，全球传统半导体四强－韩国、日本、中国以及中国台湾主导了整个亚太地区半导体产业高质量发展，在全世界内有着重要的地位。具体来看，2022年全球兆声波清洗机市场规模为17.55亿美元，同比增长4.1%，其中，亚太兆声波清洗机市场规模占全球比重达71.51%，北美占比13.56%，欧洲占比9.06%。
近年来，芯片制造的技术发展一直是兆声波清洗机发展的驱动力。随着芯片工艺的慢慢的提升，清洗工序的数量大幅度提高，所需的清理洗涤设施数量也将持续增长，给兆声波清洗机带来了巨大的新增市场需求；此外，为了进一步提升集成电路性能，芯片结构开始3D化，此时兆声波清洗机在清洗晶圆表面的基础上，还需在无损情况下清洗内部污染物，这对兆声波清洗机备提出了更高的技术方面的要求，芯片工艺的进步及芯片结构的复杂化导致兆声波清洗机的价值持续提升，在此背景下，我国兆声波清洗机规模快速扩张。据资料显示，2022年我国兆声波清洗机产能为3300台，同比增长17.9%；产量为2879台，同比增长15.1%；需求量为4534台，同比增长14.9%。
相关报告：智研咨询发布的《中国兆声波清洗机行业市场供需态势及投资前景研判报告》
从行业规模方面来看，近几年，随着国内半导体清洗、显影、除胶、刻蚀等领域对兆声波清洗机行需求市场的迅速增加，推动了我国兆声波清洗机市场的增长。据资料显示，2022年我国兆声波清洗机市场规模为31.22亿元，同比增长2.1%。其中半导体清洗领域市场占比为80.6%；半导体科研及实验室领域市场占比为5.8%。
盛美上海成立于2005年，企业主要从事对先进集成电路制造与先进晶圆级封装制造业至关重要的单晶圆及槽式湿法清理洗涤设施、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备和前道涂胶显影设备和等离子体增强化学气相沉积设备等的开发、制造和销售，公司通过自主研发并具有全球知识产权保护的SAPS和TEBO兆声波清洗技术，解决了兆声波技术在集成电路单片清理洗涤设施上应用时，兆声波能量如何在晶圆上均匀分布及怎么来实现图形结构无损伤的全球性难题，是国内兆声波清洗机行业的有突出贡献的公司。据资料显示，2022年公司半导体清理洗涤设施营收为20.78亿元，同比增长96.85%，毛利率为48.28%。
应用领域拓展推动行业发展。兆声波清洗技术具有诸多优点，一是能大幅度的降低边界层的厚度，使其具有清除深亚微米颗粒的能力，可满足现行工艺以及0.1μm（线宽）技术对清洗工艺的需求；二是可以极大的提高清洗效率；三是兆声波清洗能够正常的使用稀释倍数大的化学液，从而大幅度减少了化学药品的用量和消耗，降低了清洗工序的工艺成本，有实际效果的减少了化学液的污染，保护自然环境。近几年兆声波清洗机被大量的应用在清洗工艺中，大范围的应用于各行业，兆声波清洗的效果受到众多因素的影响，行业研究者也正结合兆声波清洗的特点，逐步的提升工艺水平，使兆声波清洗机可以在各领域中得到更充分的利用。随着兆声波清洗机应用领域的不断拓展，行业需求将持续不断的增加，进而推动我们国家兆声波清洗机行业的发展。
芯片工艺进步带动行业发展。近年来，芯片制造的技术发展一直是兆声波清洗机发展的驱动力。随着芯片工艺的慢慢的提升，清洗工序的数量大幅度提高，所需的清理洗涤设施数量也将持续增长，给兆声波清洗机带来了巨大的新增市场需求；此外，为了进一步提升集成电路性能，芯片结构开始3D化，此时兆声波清洗机在清洗晶圆表面的基础上，还需在无损情况下清洗内部污染物，这对兆声波清洗机备提出了更高的技术方面的要求，芯片工艺的进步及芯片结构的复杂化导致兆声波清洗机的价值持续提升。
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